1．遵循標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 11446.1-1997 《電子級(jí)水》

2．基本處理流程：

1)原水 預(yù)處理 雙級(jí)RO反滲透 混床 產(chǎn)水

2)原水 預(yù)處理 雙級(jí)RO反滲透 EDI 拋光床 產(chǎn)水

3．適用范圍：

適于處理生產(chǎn)顯像管、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、印刷電路板等工藝所需的純水和超純水。

       由于原水水質(zhì)對(duì)處理工藝影響較大，上述的工藝流程僅為參考的基本工藝流程，詳細(xì)的工藝流程需要我公司的技術(shù)人員根據(jù)原水水質(zhì)、產(chǎn)水要求、產(chǎn)水量以及客戶的特殊要求等條件具體設(shè)計(jì)。因此，在選用設(shè)備之前，請(qǐng)客戶提供詳細(xì)的水質(zhì)分析資料及相關(guān)條件。