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供應(yīng)真空鍍膜用氧化鋯

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供應(yīng)真空鍍膜用氧化鋯

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  • 單價:
    面議
  • 可售數(shù)量:
  • 品牌名稱:
  • 所在地:
    廣東東莞
  • 產(chǎn)品規(guī)格:
  • 包裝說明:
暫時無圖
  • 商品名稱:供應(yīng)真空鍍膜用氧化鋯
  • 自定義分類:
  • 上架時間:2010/7/15 11:14
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長期供應(yīng)真空鍍膜用 氧化鋯 規(guī)格:1-3mm 10*8mm 24*10mm ---------------------------------------------------- 產(chǎn)品說明: 1、分子式: ZrO2 2、分子量: 123.22 3、外觀: 白色或灰黑色片或顆粒 4、密度 5.6 g/cm3 5、熔點: 2720 ℃ 6、沸點: 4800 ℃ 7、蒸汽壓力 在2400 ℃時 1 Pa 在2600 ℃時 10 Pa 8、線膨脹系數(shù): 5.72×10-5/K 9、比熱(20 ℃) : 0.453 KJ/KgK 10、摩氏硬度: 6.5 11、溶解度: 不溶于水,溶于硫酸和氫氟酸 12、雜質(zhì)分析: 鐵(Fe) <30 ppm 鈷(Co) <15 ppm 銅(Cu) <15 ppm 鉻(Cr) <15 ppm 鎳(Ni) <15 ppm 錳(Mn) <10 ppm 13、薄膜特性: 透光范圍 250 ~ 7000 nm 折射率 基片溫度250 ℃,500nm時 2.05 ~ 2.1 基片溫度30 ℃,550nm時 1.8 ~ 1.9 吸收系數(shù) 在515nm 2 ×10-4 在1060nm 2 ×10-5 薄膜結(jié)構(gòu):基片溫度為低溫時 無定形 基片溫度為高溫時 水晶 14、蒸發(fā)條件: 用電子槍蒸發(fā)。 蒸發(fā)溫度 2500 ~ 2700 ℃ 蒸發(fā)壓力 5 ×10-3 ~ 2 ×10-2Pa 蒸發(fā)速率 10 nm/min 基片溫度 200 ~ 300 ℃ 應(yīng)用領(lǐng)域:增透膜、多層膜,分光片,裝飾膜等
產(chǎn)品關(guān)鍵詞: ,
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