供應(yīng)硅、矽膠產(chǎn)品parylene coating真空鍍膜防護(hù)處理

1.真空鍍膜簡介

 1.1.Parylene真空鍍膜技術(shù)（CVD.Chemical Vapor Deposition），早期起始於美國航太工業(yè)、

    通訊衛(wèi)星及國防軍事用途，而後逐漸轉(zhuǎn)移推廣至民間商業(yè)用途，至今約已40年。       1.2.及至今日，各種產(chǎn)品或零件已趨向精密微小化，因此，一般的表面被覆處理方式，如：     Epoxy、Urethane、Silicone、ED等，已 無法符合此一嚴(yán)格要求。      

2.真空鍍膜原理            

  Parylene真空鍍膜技術(shù)，是將原料置於真空中（10¯³ Torr），直接汽化並裂解成奈米（Nano）分子流，再進(jìn)入室溫下的鍍膜

室中，以氣相沈澱的方式，均勻滲入被鍍物體之內(nèi)部隙縫與表

面針孔，並逐漸聚合成完整、輕薄、均勻而又高密度之微米Micro）膜層。因此，（其良好的被覆特性與功能，完全不同且優(yōu)異於一般沈浸式或噴霧式的表面處理方式。  

3.真空鍍膜流程

  粉末狀之鍍膜材料（Dimer）在經(jīng)過汽化（150℃）與裂解（650℃）過程後，進(jìn)入鍍膜室中，在常溫下進(jìn)行氣相沉澱，

  形成Polymer膜。

真 空 鍍 膜 之 特 性 說 明

1.可形成高密度之無針孔膜層。

2.可形成極薄的膜層。（1~50μm）

3.可形成均勻且一致性的膜層。（100％直角包覆性）

4.產(chǎn)能大且迅速。（最多可達(dá)到1KK/Batch）

5.無毒特性完全符合環(huán)保採購要求。

真 空 鍍 膜 之 功 能 說 明 

1.溫度範(fàn)圍廣：適用於-200℃至+200℃之環(huán)境溫度。

2.無應(yīng)力表面：電路敏感度不受影響。

3.超薄膜層：表面散熱影響程度最低。

4.低摩擦係數(shù)：形成表面乾膜式潤滑效果。

5.有機(jī)相容性：不形成生物排斥現(xiàn)像。

6.透明：膜層可達(dá)光學(xué)品質(zhì)。

7.包覆性極佳：可提高電子零件及機(jī)械裝置之定位。

8.抗溶劑侵蝕性：不溶解於溶劑，可耐受酸、鹼液體腐蝕。

9.高阻滯性：氧氣、水氣滲透性極低，同時(shí)防止游離。

10.絕緣性：可耐受3000v/AC高電壓。

●不論是零件或是產(chǎn)品

● 不論是何種材料製造