產(chǎn)品關(guān)鍵詞：
顯微鏡,偏光顯微鏡,熔點(diǎn)儀,
一、儀器的主要用途和特點(diǎn)
XPR-500型透射偏光熔點(diǎn)測定儀（熱臺）是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化 學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)最常用的專業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。
本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域，適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結(jié)晶動力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。
偏光顯微熔點(diǎn)測定儀XPR-500系統(tǒng)匯集了光電、模式識別、精密加工、圖象學(xué)、自動控制、模量學(xué)等總多研究領(lǐng)域的當(dāng)前領(lǐng)先技術(shù)，多年研究開發(fā)的結(jié)果，在國內(nèi)享有絕對領(lǐng)先.本儀器的具有可擴(kuò)展性，可以接計(jì)算機(jī)和數(shù)碼相機(jī)。對圖片進(jìn)行保存、編輯和打印。
| 二、儀器的主要技術(shù)指標(biāo) |
1.顯微鏡技術(shù)參數(shù):
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名 稱
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規(guī) 格
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總放大倍數(shù)：
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40X---630X
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無應(yīng)力消色差物鏡
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4X/0.1
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10X/0.25
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25X/0.40
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40X/0.65
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63X/0.85
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目鏡
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WF10X/18mm
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10X網(wǎng)格目鏡
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10X刻度目鏡
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10X分劃目鏡
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試片
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石膏1λ試片
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云母1/4λ試片
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石英楔子試片
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測微尺
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0.01mm
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濾色片
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藍(lán)色
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聚光鏡
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N.A.1.25帶可變光欄搖擺式聚光鏡
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集光鏡
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高亮度固定式照明
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載物臺
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360度旋轉(zhuǎn)，直徑160mm
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移動尺
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移動范圍30mm×40mm
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鏡筒
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45度平拉式三目觀察（52mm-74mm)
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光源
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鹵素?zé)簦?V/30W.AC 85V-230V）亮度可調(diào)
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2.熔點(diǎn)儀技術(shù)參數(shù):
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熱臺組成
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性能
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顯微精密控溫儀
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在 20倍物鏡下工作溫度可達(dá)到最高300 ℃ 、溫度運(yùn)行程序全自動控制；溫度程序段由用戶自行設(shè)定， 30段溫度編程，循環(huán)操作，能準(zhǔn)確反映設(shè)定溫度、爐芯溫度、樣品的實(shí)際溫度。每段設(shè)定起始溫度，及在該段內(nèi)可維持時(shí)間，升溫速率可調(diào)、精度 ± 0.3 ℃、記憶點(diǎn)讀數(shù)
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顯微加熱平臺
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可以隨載物臺移動、工作區(qū)加熱面積大、透光區(qū)域可調(diào)、工作區(qū)溫度梯度低于± 0.1
• 起始溫度室溫
• 工作區(qū)加熱使用面積至少 1X1厘米
• 工作區(qū)溫度梯度不超過 ± 0.1
• 透光區(qū)域 2mm以上，可調(diào)
• 顯示溫度與實(shí)際溫度誤差不超過 ± 0.2
• 熱臺可以隨載物臺移動
在加熱狀態(tài)下最高可使用 20倍物鏡
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注意：熔點(diǎn)測定（溫度超過100度時(shí)，25X的物鏡工作距離
太近，容易損壞鏡頭，請選用長工作距離的物鏡25X、40X的物鏡） |
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| 三、系統(tǒng)數(shù)字性 |
| XPR-500C型偏光熔點(diǎn)儀系統(tǒng)是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、先進(jìn)的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、尖端的計(jì)算機(jī)成像技術(shù)和精密的溫控技術(shù)完美地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項(xiàng)高科技產(chǎn)品?？梢栽谟?jì)算機(jī)上很方便地觀察不同溫度下的偏光效果圖像，并對偏光圖譜進(jìn)行分析,處理,還可輸出或打印偏光圖片。 |
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產(chǎn)品關(guān)鍵詞：
顯微鏡,偏光顯微鏡,熔點(diǎn)儀,
![偏光熔點(diǎn)儀（熱臺）：XPR-500C]()
