該系列設(shè)備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發(fā)和離子源及脈沖偏壓結(jié)合等技術(shù)為一體，實(shí)行全自動 化控制。此設(shè)備廣泛應(yīng)用于表帶、表殼、手機(jī)殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN，TiC，TiCN、TiAIN，CrN ，Cu，Au，Al2O3等各種裝飾膜層。
參數(shù)說明：
| 型號 | JTL-1090 | JTL-1110 | JTL-1312 | JTL-1613 |
| 真空室尺寸 | Φ 1000Χ900mm | Φ 1100Χ1000mm | Φ 1300Χ1200 mm | Φ 1600Χ1300 mm |
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鍍膜方式及主要配置 |
3個(gè)電弧+平面矩形陰極2對 | 6個(gè)電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對 | 6個(gè)電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對 | 8個(gè)電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對 |
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鍍膜種類 |
金屬膜，介質(zhì)膜，化合物膜，反應(yīng)膜，多功能層次膜 |
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電源 |
電弧電源，真空磁控電源，中頻磁控電源，脈沖偏壓電源，離子源電源 |
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真空室結(jié)構(gòu) |
立式前（單）開門，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷 |
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真空系統(tǒng)組成 |
分子泵（擴(kuò)散泵）+羅茨泵+機(jī)械泵 |
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極限真空 |
8.0Χ10-4 |
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抽氣時(shí)間 |
大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min |
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工件運(yùn)動方式 |
公 /自轉(zhuǎn)，變頻調(diào)速 |
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工件烘烤溫度 |
常溫到 350oC可調(diào)可控 |
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控制方式 |
全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI |
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備注 |
該設(shè)備可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 |
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