RCVD系列真空氣氛管式爐廣泛用于高、中、低溫CVD工藝,例如:碳納米管的研制,試驗用碳纖維碳化、晶體硅板鍍膜、納米氧化鋅結構可控生長等等,也可用于金屬材料的擴散焊接及真空或氣氛保護下的熱處理。
主要特點
采用精煉石英管或高純高于管作為爐膛,可拆卸的密封方式,具有良好的潔凈度和真空度,耐火保溫材料全部采用先進的輕質纖維制品,整機質量輕、低能耗。加熱元件采用優(yōu)質硅鉬棒、硅碳棒或進口電阻絲;溫度控制系統(tǒng)采用原裝進口智能多段程序溫度控制儀控制,具有良好的穩(wěn)定性、均勻性。
技術指標
設備型號 |
RQL-07/75/3 |
RQL-18/110/3 |
RCVD(D)-06/60/3 |
RCVD(G)-09/50/1 |
最高溫度 |
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使用溫度 |
RT |
RT |
RT |
RT |
控溫精度 |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
溫區(qū)個數(shù) |
3個 |
3個 |
3個 |
1個 |
爐管尺寸 |
Φ70×2200mm |
Φ180×2100mm |
Φ60×1400mm |
Φ90×1450mm |
發(fā)熱元件 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
U型硅鉬棒 |
最大裝機功率 |
7.5KW |
18KW |
4KW |
8KW |
箱式爐選件功能 |
Z |
真空系統(tǒng):機械泵或是機械泵+擴散泵機組或是分子泵 |
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Q |
氣氛保護系統(tǒng):浮子流量計或是進口/國產(chǎn)質量流量計 |
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J |
記錄打印系統(tǒng):有(無)紙記錄儀 |