微電子(單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝)生產(chǎn)用高純水系統(tǒng)超純水設(shè)備，余艷13073396006,QQ:674831270
微電子、電池工業(yè)用水處理設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考
用途Applications 用水指標(biāo)Water Indicators 參考標(biāo)準(zhǔn)Reference standard 單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn) 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) 單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè) 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)，我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、尖端磁性材料用純水 電阻率10 ~17 MΩ.CM Resitivity10 ~17 MΩ.CM 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) 蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn) 電阻率5 ~10 MΩ.CM Resitivity5 ~10 MΩ.CM 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級(jí)無塵布生產(chǎn)用水 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM Resitivity15 ~18.25 MΩ.CM 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)
主要工藝流程和出水指標(biāo)：
※預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）
※預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）
※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）
詳情請(qǐng)聯(lián)系：余艷13073396006,QQ:674831270）
詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)
純水設(shè)備的主要特點(diǎn)
▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；
▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性，增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除；
▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲(chǔ)存容易污染問題；
▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定；
▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全；
▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡(jiǎn)單、安全；
▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小，全方位滿足需求。
▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低，全自動(dòng)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)無人化管理操作。
詳情請(qǐng)聯(lián)系：余艷13073396006,QQ:674831270
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