該系列設(shè)備主要集中頻磁控濺射、脈沖偏壓結(jié)合等技術(shù)為一體,實(shí)行全自動(dòng)化控制。此設(shè)備廣泛應(yīng)用于表帶、表殼、手機(jī)殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各種裝飾膜層。
參數(shù)說明:
型號(hào) | HY-1090 | HY-1110 | HY-1312 | HY-1612 |
真空室尺寸 | Φ 1000Χ900mm | Φ 1100Χ1000mm | Φ 1200Χ1200 mm | Φ 1600Χ1200 mm |
鍍膜方式及主要配置 |
柱靶1對(duì) | 柱靶1對(duì) | 柱靶1對(duì) | 柱靶2對(duì) |
鍍膜種類 |
金屬膜,介質(zhì)膜,化合物膜,反應(yīng)膜,多功能層次膜 |
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電源 |
電弧電源,真空磁控電源,中頻磁控電源,脈沖偏壓電源,離子源電源 |
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真空室結(jié)構(gòu) |
立式前(單)開門,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷 |
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真空系統(tǒng)組成 |
分子泵(擴(kuò)散泵)+羅茨泵+機(jī)械泵 |
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極限真空 |
6.0Χ10-4 |
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抽氣時(shí)間 |
大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min |
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工件運(yùn)動(dòng)方式 |
公 /自轉(zhuǎn),變頻調(diào)速 |
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工件烘烤溫度 |
常溫到 350oC可調(diào)可控 |
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控制方式 |
全自動(dòng)化控制 PC+PLC/PC+HMI |
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備注 |
該設(shè)備可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 |
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