電鍍涂裝行當(dāng)，以增加電鍍外表光潤(rùn)度，亮度，附著力，電鍍?nèi)芤旱膶?dǎo)電15us/cm預(yù)備必要時(shí)也可應(yīng)用下面的水電導(dǎo)率10us/cm洗滌，電鍍?cè)陔婂兤此?，其他工業(yè)，水料理系統(tǒng)，包含前預(yù)備電鍍電鍍液必要的水料理系統(tǒng)，再生金屬電鍍漂洗廢水的零排泄，沖洗水回收系統(tǒng)。通常情況下，系統(tǒng)超濾裝置，反滲透，離子交換設(shè)備，EDI設(shè)備的組合，以滿意水質(zhì)要求，對(duì)電鍍行當(dāng). 
電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體，集成電路芯片及封裝，液晶顯現(xiàn)，高精密電路板，光電器件，各種電子設(shè)備，微電子工業(yè)，大規(guī)模，超大規(guī)模集成電路必要大度的高純水，超純水洗半成品。集成電路的集成度更高，水質(zhì)的要求更高。現(xiàn)在，中國(guó)電子行當(dāng)?shù)碾娮铀徊糠譃槲鍌€(gè)行當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)，即18MΩ.cm，15MΩ.cm，10MΩ.cm，2MΩ.cm，0.5MΩ.cm，分辨不同的水quality.Obtained與兩個(gè)反滲透系統(tǒng)
電子工業(yè)用超純水反滲透水料理設(shè)備，加上主機(jī)EDI
制備超純水料理設(shè)備，電子行當(dāng)
制備電子工業(yè)超純水的過(guò)程
電子行當(dāng)制備超過(guò)基本分為以下幾類水工藝：
1，應(yīng)用離子交換樹(shù)脂傳統(tǒng)的水料理方法編寫(xiě)的超純水，其基本過(guò)程是：原水→砂→精密過(guò)濾器活性炭過(guò)濾器的原始水箱→陰陽(yáng)床→床混床→純→純水箱泵水點(diǎn)后精度的過(guò)濾器→
2，反滲透水料理設(shè)備和離子交換設(shè)備相聯(lián)合的方式，其基本過(guò)程是：原水過(guò)濾碳沉積物→→→精密過(guò)濾器反滲透設(shè)備，原水箱→→混床→水的情況下純水泵→→→用水點(diǎn)后精密過(guò)濾器
3，反滲透水料理設(shè)備和電去離子（EDI）的方式，這是一個(gè)超純水系統(tǒng)，把最新的技術(shù)設(shè)備，也是一個(gè)環(huán)境，經(jīng)濟(jì)和發(fā)展?jié)摿Φ某兯^(guò)程，基本過(guò)程是：原水過(guò)濾碳沉積物→→→精密過(guò)濾器反滲透設(shè)備，原水箱→→→電去離子（EDI）的純純水箱→→泵→過(guò)濾水后精度pointsThree種電子行當(dāng)用超純水制備過(guò)程中更
現(xiàn)在的電子工業(yè)用超純水制備過(guò)程，基本上是上述三個(gè)過(guò)程的其他部分主要是基于匹配派生的不同組合的上述三個(gè)基本過(guò)程。當(dāng)今他們的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)都列在下面：
1，第一個(gè)離子交換樹(shù)脂的一個(gè)小的初始投資的優(yōu)勢(shì)，占用的地方小，但缺點(diǎn)是必要屢次再生離子，酸費(fèi)時(shí)，而且有一些對(duì)環(huán)境的危害。
2，第二反滲透前匹配的離子交換設(shè)備，這是由初始投資程度達(dá)到通過(guò)離子交換樹(shù)脂法特點(diǎn)是高，但離子裝置再生周期相對(duì)較長(zhǎng)，比簡(jiǎn)單的離子的酸耗時(shí)樹(shù)脂的方式，少了很多。但有一定的環(huán)境或危害性。
3，預(yù)匹配電去離子（EDI）設(shè)備，這是超純水系統(tǒng)，采取最經(jīng)濟(jì)，最環(huán)保的提取過(guò)程中應(yīng)用的超純水，不應(yīng)用酸堿再生第三反滲透能夠采取一個(gè)延續(xù)的超純水系統(tǒng)，沒(méi)有危害環(huán)境。缺點(diǎn)是，初始投資相對(duì)比較兩種方式太昂貴。