四氧化三鈷/納米氧化鈷
Cobalt(II,III)oxide
 
Cas號(hào) 【1308-06-1】  MDL:  --MFCD00010939 
Beilstein   EINECS:  --215-157-2 
分子式 Co3O4
分子量 240.80
別名 氧化鈷(II,III),,一氧化鈷合三氧化二鈷 
分子結(jié)構(gòu)式 
性狀 黑色或灰色結(jié)晶。能吸收水分而成水合物，但無固定組成。易被碳、一氧化碳或氫還原成鈷。900℃

以上時(shí)失去氧成為一氧化鈷，在較低溫時(shí)能吸收氧，結(jié)晶的結(jié)構(gòu)不變。溶于酸和堿，幾乎不溶于水。
密度：6.11
熔點(diǎn):895 °C 
  
備注:  以上描述，僅作參考，并不表示您收到的產(chǎn)品，與此項(xiàng)描述完全相符，產(chǎn)品的出廠標(biāo)準(zhǔn)，請(qǐng)參見

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。
質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)  
  項(xiàng)目                              化學(xué)純  
                                   (CP)
含量（以Co計(jì)）                    72.0～73.5% 
堿金屬及堿土金屬                  ≤0.6% 
硫化合物                          ≤0.1% 
鎳                                ≤0.2% 
鐵                                ≤0.04% 
重金屬                            ≤0.08% 

項(xiàng)目                              電池級(jí)
Co                                ≥72.6-73.6%
Ni                                ≤0.02%
Fe                                ≤0.01%
Mn                                ≤0.01%
Cu                                ≤0.01%
Pb                                ≤0.005 %
Si                                ≤0.01%
Na                                ≤0.01%
K                                 ≤0.01%
Ca                                ≤0.01%
Mg                                ≤0.01%
Al                                ≤0.005%
S                                 ≤0.01% 
C                                 ≤0.03%
           

99.99% metals basis:

外觀Appearance                          Black or Dark Grey
Powder and/or Chunks
X-射線衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to Structure
純度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
Complexometric EDTA (% Co)              72.0 - 74.0 % 
ICP:                                    Confirms Cobalt Component Confirmed
痕量金屬分析total metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission

30nm 球形，99.5%
外觀Appearance                           Black powder
X射線衍射X-Ray Diffraction               Conforms to Structure
EDTA滴定Complexometric EDTA (% Co)       71.6 - 75.2 %
粒徑Particle Size                        ≤30 nm
痕量金屬Trace Metal Analysis             ≤5000 ppm
純度Purity(Based on Trace Metals of ICP) ≥99.5 %
貯存 密封保存。
用途 主要用于電池材料、磁性材料、熱敏電阻等； 也可用作催化劑機(jī)制作琺瑯等