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| XCTG-6 | XCTG-8 |
| 鍍膜室規(guī)格 | ∮1200×1000～1200mm | ∮1200～1900mm×1200～1300mm |
| 極限真空度 | ≤7.6×10-4Pa | |
| 冷態(tài)抽真空時間 | 從1×105Pa至6.6×10-3Pa≤15分鐘 | |
| 機組配置 | 分子泵F2500 3臺 | 分子泵F4000 2-4臺 |
| 靶配置 | 6個弧源 | 8個弧源 |
| 配電要求 | KW | KW |
| 設備用途 | 適用于手機殼、手表、高爾夫球具等行業(yè)高品質(zhì)鍍膜要求 | |
| 備注 | 可根據(jù)用戶產(chǎn)品、產(chǎn)量、膜層特殊要求設計制造非標專用設備?？杉友b磁控靶、中頻孿生對靶等。 | |
