二、EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)工作原理
一般自然水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透（RO）的處理，95%-99%以上的離子可以被去除。RO純水（EDI給水）電阻率的一般范圍是0.05-1.0MΩ·cm，即電導(dǎo)率的范圍為20-1μS/cm。根據(jù)應(yīng)用的情況，去離子水電阻率的范圍一般為5-18 MΩ·cm。另外，原水中也可能包括其他微量元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅），這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過(guò)程對(duì)于這些雜質(zhì)的清除效果較差。因此，EDI的作用就是通過(guò)除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì))的過(guò)程，將水的電阻率從0.05-1.0MΩ·cm提高到5-18 MΩ·cm。
三、EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)適用范圍
EDI超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、化工廠工藝用水以及其它超純水應(yīng)用領(lǐng)域。
四、EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)進(jìn)水水質(zhì)要求
| TEA( 含 CO 2 ) <25mg/LasCaCO 3 | PH 5 - 9 |
| 硬度 < 0.1 mg/LasCaCO 3 | 硅 <0.5mg/L |
| TOC <0.5 mg/L | 余氯 <0.05mg/L |
| Fe ， Mn ， H 2 S <0.01 mg/L | 進(jìn)水壓 30 － 100PSI |
五、EDI高（超）純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程與說(shuō)明
5.1 EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程
原水箱+原水泵+石英砂過(guò)濾機(jī)+活性炭過(guò)濾機(jī)+軟水機(jī)+保安過(guò)濾機(jī)+一級(jí)反滲透裝置+中間水箱+二級(jí)反滲透設(shè)備+純水箱+TOC脫除器+保安過(guò)濾機(jī)+EDI超純水裝置+拋光塔+終端精密過(guò)濾
六、EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)：
1）EDI無(wú)需化學(xué)再生，節(jié)省酸和堿
2）EDI可以連續(xù)運(yùn)行
3）提供穩(wěn)定的水質(zhì)
4）操作管理方便，勞動(dòng)強(qiáng)度小
5）運(yùn)行費(fèi)用低
EDI超純水設(shè)備，電容超純水設(shè)備，東莞超純水設(shè)備，東莞杰邦水處理設(shè)備廠咨詢
