 半導(dǎo)體擴散爐 |
| 設(shè)備用途：用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光 電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結(jié)、合金等工藝。 設(shè)備特點：單元組合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機的基礎(chǔ)上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。 主要技術(shù)指標(biāo)： ★ 爐管數(shù)：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃) ★ 氣源路數(shù)： ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器 ★ 氣體控制： 浮子/質(zhì)量流量計 ★ 懸臂舟參數(shù)： 速度： 20～1000 mm/min *行程：2000 mm 定位精度：±1 mm *載荷：17 Kg ★ 超凈工作臺： 凈化等級：100級（萬級廠房） 噪音： ≤62dB（A） 振動： ≤3μm |
