e光在治療過程中，光能主要用于調(diào)整靶組織的阻抗值，引導(dǎo)RF(射頻)能量集中作用于靶組織。光能不是主要治療能量，從而避免了主要能量的反射和折射問題?；赗F(射頻)的特性，RF(射頻)在皮膚組織產(chǎn)生的熱效應(yīng)取決于電流密度，電流密度的分布取決于皮膚組織的阻抗分布，組織溫度越高阻抗越低，電流密度越大，產(chǎn)生的熱效應(yīng)越高;反之，組織溫度越低阻抗越高，電流密度越小，產(chǎn)生的熱效應(yīng)越低。所以靶組織對(duì)起主要治療作用的RF(射頻)能量的吸收并不受表皮色素屏障的影響，RF(射頻)能量可以充分作用于靶組織，得到良好的治療效果。 　　e光的穿透深度取決于RF(射頻)的穿透深度，RF(射頻)的穿透深度是RF(射頻)兩極之間距離的一半，根據(jù)這個(gè)原理，e光治療系統(tǒng)根據(jù)不同的治療目的合理設(shè)計(jì)的治療頭，使得E光的穿透深度完全滿足于治療要求，最深穿透可達(dá)皮下15mm，進(jìn)一點(diǎn)確保了治療的有效性。 　　e光系統(tǒng)中的光能和射頻能均可單獨(dú)控制，操作者在治療過程中可以選用較低的光能和較高的射頻能，從而將術(shù)后產(chǎn)生表皮灼傷的風(fēng)險(xiǎn)降為最低。所以e光治療后，基本上不會(huì)出現(xiàn)諸如面部紅腫之類的并發(fā)癥，更不會(huì)出現(xiàn)紫癜。在使用e光進(jìn)行治療時(shí)，操作者根本不用擔(dān)心由于高能量或者治療頭離皮膚過近所造成的表皮灼傷。 　　e光系統(tǒng)獨(dú)特的專利技術(shù)——ISL(實(shí)時(shí)皮膚溫度/阻抗監(jiān)測(cè)系統(tǒng))和強(qiáng)效的冷卻系統(tǒng)，進(jìn)一步保護(hù)表皮并確保臨床療效。