隨著光電子產業(yè)的迅猛發(fā)展，光清洗燈在清洗光電產品中是必不可少的工藝，清洗對產品的質量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗，它一方面能避免由于使用有機溶劑造成的污染，同時能夠將清洗過程縮短。一、紫外光清洗的工作原理： 光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到"原子清潔度"。 更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子。 空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產生臭...