北京冠金利新材料科技有限公司為您供應(yīng)高純鋯靶材及鋯的相關(guān)鍍膜產(chǎn)品，主要包括：

1、高純鋯靶:本公司供應(yīng)適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋯靶材。

2、高純鋯靶材純度為：99.9%，99.95%,99.99%。

3、高純鋯靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋯靶，150*100*3平面高純板鋯靶材，（2）磁控濺射用高純鋯靶：?100*120柱靶等。

4、高純鋯靶的原材料生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。

5、高純鋯靶材加工工藝：車(chē)，銑，等。

以上是北京冠金利新材料科技有限公司對(duì)高純鋯靶的相關(guān)介紹，高純鋯靶材規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工，如有疑問(wèn)，請(qǐng)來(lái)電咨詢！

北京冠金利新材料科技有限公司高純單質(zhì)濺射靶

高純鋁靶Al 高純銅靶Cu 高純鐵靶Fe 高純鈦靶Ti 高純鎳靶Ni

高純鎂靶Mg高純鉻靶Cr 高純鋅靶Zn 高純銀靶Ag 高純鈷靶Co

高純鈮靶Nb 高純錫靶Sn 高純銦靶In 高純鋯靶Zr 高純鉭靶Ta

高純鍺靶Ge 高純硅靶Si  高純鎢靶W 高純鉿靶Hf 高純釔靶Y

高純釓靶Gd 高純釤靶Sm 高純鏑靶Dy 高純鈰靶Ce 高純鑭靶La

高純金靶Au 高純不銹鋼靶高純石墨靶C 高純硒靶Se高純鉬靶Mo

高純鉑靶Pt 高純鉛靶Pb   高純鐠靶Pr  高純鋱靶Tb 高純鈥靶Ho

高純鐿靶Yb 高純銩靶Tm 高純镥靶Lu  高純鉺靶Er 高純鈧靶Sc

以上是北京冠金利新材料科技有限公司單質(zhì)濺射靶種類(lèi)，根據(jù)金屬靶種類(lèi)的不同，靶所能達(dá)到的最高純度也不相同，純度一般為99.9%-99.9999%之間，根據(jù)濺射設(shè)備的不同，以上靶常用形狀規(guī)格有圓靶、板靶、旋轉(zhuǎn)柱靶、旋轉(zhuǎn)管靶、圓臺(tái)靶、階梯靶等，可根據(jù)您的要求定做，如果您有以上靶需要，請(qǐng)來(lái)電咨詢，我們會(huì)用誠(chéng)信和品質(zhì)給您一個(gè)滿意的答復(fù)。