鋁粒

化學(xué)符號：Al 
外    觀：銀白色
原 子 量：26.98154 
蒸發(fā)溫度：1220℃
密    度：2.7g/cm3 
熔    點：660℃
沸    點：2467℃ 
汽化溫度：1082℃
電 阻 率/μΩ?cm:2.66 
電阻溫度系數(shù)/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：氫氧化鈉，堿類，稀硝酸 
蒸發(fā)方式：鎢絲或鉬舟
蒸發(fā)源材料（絲、片）:W
坩    堝:BN、TiC/C、TiB2-BN 
性    能：鋁膜從紫外區(qū)到紅外區(qū)具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對基地的附著力比較強(qiáng)，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護(hù)，所以鋁膜的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色，但有時也呈黑色。蒸發(fā)源為電子槍，基地為氧化硅薄膜（100nm厚），蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好；加工性能好，可加工成任意形狀；
波長/nm    折射率n 消光系數(shù)k 反射率/%
220     0.14     2.35 91.8
250     0.19     2.85 92.0
300     0.25     3.33 92.1
340     0.31      3.8 92.3
380     0.37     4.25 92.6
436     0.47     4.84 92.7
492     0.64     5.50 92.2
546     0.82     5.44 90.0
650     1.30     7.11 90.7
700     1.55     7.00 88.8
800     1.99     7.05 86.4
950     1.75     8.50 91.2
2000     2.30     16.5 96.8
4000     5.97     30.3 97.5
6000     11.0     42.2 97.7
8000     17.0     55.0 98.0
10000     25.4     67.3 98.1
應(yīng)   用：保護(hù)膜，反射膜，增透膜
用   途：超純鋁用于制造光電子存儲媒體；作為集成電路的配線；