北京冠金利新材料科技有限公司為您供應高純鋁靶材及鋁的相關(guān)鍍膜產(chǎn)品，主要包括：

1、高純鋁靶:本公司供應適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋁靶材。

2、高純鋁靶材純度為：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。

3、高純鋁靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋁靶，150*100*3平面高純板鋁靶材，（2）磁控濺射用高純鋁靶：?100*120柱靶等。

4、高純鋁靶的原材料生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。

5、高純鋁靶材加工工藝：車，銑，等。

6、高純鋁靶材相關(guān)參數(shù)的介紹：外觀：銀白色 密度：2.70 g/cm3熔點： 660℃沸點：2463

北京冠金利新材料科技有限公司長期為您供應高純銅，高純銅靶，高純銅靶材，銅靶材及其相關(guān)產(chǎn)品，產(chǎn)品如下：

1、高純銅靶：平面靶常用規(guī)格如圓銅靶?76.2*5板靶：400*100*10 ，2、高純銅靶磁控旋轉(zhuǎn)柱靶，如?65*80等。

3、高純銅靶純度為99.95%-99.9999%。

4、高純銅靶產(chǎn)品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲等等。

5、蒸發(fā)鍍用高純銅絲、高純銅顆粒、高純銅柱(3*3mm\6*6mm\2*10mm)等

6、各種規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工。

北京冠金利新材料科技有限公司長期供應高純鈦及高純鈦靶，高純鈦靶材，純度為99.9%-99.999%，本公司專業(yè)生產(chǎn)金屬鍍膜材料，鈦靶是我們的主營靶材之一，主要用于濺射鍍膜，各大科研院所及高校實驗。高純鈦靶的相關(guān)介紹如下：

1、高純鈦靶材的純度為99.5%，99.9%，99.99%，99.999%。

2、平面高純鈦靶材常用規(guī)格：?100*40，?76.2*6，100*400*10等。

3、柱狀高純鈦靶：100*80，125*63等等。

4、高純鈦靶的規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工。

5、高純鈦靶的生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術(shù)。

6、蒸鍍用高純鈦絲：?0.2-3。

7、蒸發(fā)用高純鈦顆粒:6*6,2*10,3*3等。