1　有機物光催化降解機理

光催化化合法是以Ｎ型半導體的能帶理論作為基本的。半導體粒子含有能帶結(jié)構(gòu),分為導帶和價帶,把它們隔開的地區(qū)叫禁帶。當入射光的能量大于半導體的禁帶寬度時,便會有電子從價帶被擊發(fā)到導帶了,這樣便會在導帶了發(fā)生高活性電子ｅ-,同時在價帶了發(fā)生相應的空穴(ｈ+),這種空穴-電子對擁有非常非常強的化合-還原性。水溶液中的光催化化合襯映便是使水分子在半導體表層丟失電子,通過變化的水分子發(fā)生了化合能力非常非常強的基團(重要是ＯＨ),這些擁有高度活性的羥基自由基可以介入和加速化合還原襯映的開展,從而化合水中的各種有機污染物,并終極使之礦化為水和ＣＯ2或者其他有機物,從而遞減了對環(huán)境的危害。以ＴｉＯ2催化劑為例,重要襯映流程如下:

　?。裕椋?催化化合顏料等有機污染物的襯映機理如圖片1所示。圖片1(ａ)為普通有機污染物在紫外光照耀下催化降解的定理圖片。而鑒于顏料類氧化物,如圖片1(ｂ)所示,同時還存在由可感光擊發(fā)而致使降解的另一方法。在可感光效用下,顏料分子吸取光子構(gòu)成擊發(fā)單重態(tài)或者擊發(fā)三重態(tài),擊發(fā)態(tài)的顏料分子能夠向ＴｉＯ2導帶注入一個電子而自身生成正碳自由基。注入導帶的電子與吸附在ＴｉＯ2表層的Ｏ2效用后構(gòu)成Ｏ2-·,并深入構(gòu)成ＨＯ2·等活性氧自由基,經(jīng)一系列化合還原襯映終極礦化為ＣＯ2、Ｈ2Ｏ等無機小分子氧化物。光催化降解有機污染物是一種高效的處理　方式,特別是當水中有機污染物純度非常非常高或者用其它方式非常非常難降解時,這種技能有著顯著的優(yōu)點。討論已發(fā)覺幾百種有機物可以經(jīng)過光催化襯映何以降解