GPC-102 A（替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）是一款臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī)，具有體積僅為臺(tái)式烤箱大小、非破壞性的納米級(jí)清洗的特點(diǎn)，是一款特別適合實(shí)驗(yàn)室、超凈間及研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)采用工藝氣體如大氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣或氦氣等作為清洗氣體介質(zhì)，有效避免了因液體清洗劑對(duì)被清洗物帶來的殘留物污染及排放污染。GPC-102 A等離子清洗機(jī)配套一臺(tái)真空泵，工作時(shí)真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被清洗物的表面產(chǎn)生物理及化學(xué)反應(yīng)，短暫的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清除，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到納米級(jí)。GPC-102 A等離子清洗機(jī)除了具有納米級(jí)清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性，而不改變材料的主要性能。對(duì)某些特殊用途的材料，在納米級(jí)清洗過程中GPC-102 A等離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌，而無需考慮使用化學(xué)試劑如EtOH的排放和回收。

GPC-102 A等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域：

?清洗光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

?清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片、移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

?清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

?移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

?清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

?清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

?高分子材料表面的修飾。

?封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和。

?改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

?涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

?牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。

?醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

GPC-102 A等離子清洗機(jī)技術(shù)特征：

?緊湊型臺(tái)式等離子清洗設(shè)備，無射頻輻射危害，通過CE/EMC、CE/LVD、ROHS及FCC VOC認(rèn)證。

?射頻（RF）功率無極調(diào)節(jié)，可根據(jù)應(yīng)用需要自由設(shè)置。

?等離子清洗機(jī)整體適配與惰性氣體如大氣、氬氣、氮?dú)?，活性氣體氧氣、氦氣、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用。

?適用于超凈間，無需配備其它附件即可使用。

?全套工藝氣體管路采用特氟龍（teflon）材質(zhì)及美國(guó)Swagelok高質(zhì)316不銹鋼閥門。

GPC-102 A等離子清洗機(jī)具有如下優(yōu)勢(shì)：

?具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。

?可對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。

?完全徹底地清除樣品表面的有機(jī)污染物。

?無極功率處理、快速方便、清洗效率高。

?綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無二次污染。

?在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)溫敏感樣品非破壞性處理。

GPC-102 A（替代Harrick PDC-32G-2、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：

等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）， 7.9英寸（200毫米）深

等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英（99.99%二氧化硅）

等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（最大）

等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz

等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)

等離子清洗機(jī)重量：12公斤（約）

等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 16.8英寸（426毫米）寬 x 12.4英寸（315毫米）深

等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì)規(guī)格

高配機(jī)型GPC-102 （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：

等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米），7.9英寸（200毫米）深

等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英（99.99%二氧化硅）

等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（最大）

等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz

等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)

等離子清洗機(jī)重量：16公斤（約）

等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 30英寸（762毫米）寬x 12.4英寸（315毫米）深

等離子清洗機(jī)真空計(jì)：熱偶式、數(shù)碼顯示、實(shí)時(shí)監(jiān)控真空反應(yīng)艙內(nèi)壓力。

等離子清洗機(jī)流量氣體混合計(jì)：配備氣體流量控制系統(tǒng)，可以精密控制工藝氣體喂入及混合。

等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì)規(guī)格