擴散爐是半導(dǎo)體器件及規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的一種熱加工設(shè)備。按控制方式分為微控和程控兩種。其組成有：加熱爐體（擴散爐主機）、凈化工作臺、送片系統(tǒng)（推拉舟系統(tǒng)）、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等。

微機擴散爐主要技術(shù)指標(biāo)

◆可配工藝管外徑：2～8英寸
◆可配工藝管數(shù)量：1～4管/臺
◆工作溫度范圍：400～1300°C
◆恒溫區(qū)長度及精度：300～1000mm 600～1300°C±0.5°C
◆ 單點溫度穩(wěn)定性：600～1300°C±0.5°C/24h
◆最大可控升溫速度：15°C/min
◆最大降溫速度:5°C/min
★青島華鈺公司可為用戶量身定制非標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品。

該系統(tǒng)主要功能如下：

◆全中文操作界面，可編輯參數(shù)，操作簡便。
◆可保存多條工藝曲線，每條曲線可設(shè)置多步。
◆工藝曲線的自動運行控制功能。
◆自動運行中可暫停/繼續(xù)運行功能。
◆工藝中可強制跳到下一工藝歩運行功能。
◆只能升降溫斜率控制功能。
◆PID參數(shù)自整定功能。
◆可存儲多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運行調(diào)用功能。
◆系統(tǒng)故障的檢測與報警功能。
◆系統(tǒng)誤差修正（單點或多點動態(tài)修正功能）。
◆智能懸臂推拉舟控制功能。
◆工藝氣體的程序控制功能（電磁閥/質(zhì)量流量控制器）。
◆停電后斷點繼續(xù)運行功能等等。
★該系統(tǒng)可根據(jù)用戶的特殊要求增減或開發(fā)相應(yīng)的功