產(chǎn)品關(guān)鍵詞： 斯派克光譜,

      SPECTRO公司推出的全新SPECTROLAB M11新型斯派克光譜大大提高了分析性能，增強(qiáng)了靈活性，操作更為簡(jiǎn)便。根據(jù)用戶要戶要求量身定制，十種標(biāo)準(zhǔn)基體：鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅，可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀、釕組合配置。

      SPECTROLAB M11斯派克光譜光學(xué)系統(tǒng)集合了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)。主光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部包括兩個(gè)獨(dú)立的光譜模塊---光電管光學(xué)部分和CCD光學(xué)系統(tǒng)，信號(hào)通過高性能數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)來處理。

配備最新現(xiàn)代化的光譜技術(shù)和高質(zhì)量的組成部件，SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀適用于各種分析要求，可廣泛應(yīng)用于金屬冶煉、金屬加工與回收等行業(yè)。是目前國內(nèi)外市場(chǎng)最好的一款火花直讀光譜儀。

SPECTROLAB M11斯派克光譜詳細(xì)介紹：

1、UV-PLUS專利光學(xué)系統(tǒng)：

     SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測(cè)器的優(yōu)勢(shì)：光電倍增管和CCD檢測(cè)器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，專利光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅(jiān)固，同時(shí)減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS專利技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測(cè)量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氬氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過率。光室內(nèi)的氬氣由分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氬氣的高純度。

UV-PLUS專利光學(xué)系統(tǒng)是純凈的，同時(shí)具有杰出的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。專利系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率極佳，運(yùn)行成本很低。

無與倫比的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與UV-PLUS概念相結(jié)合，SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀能夠同時(shí)以高達(dá)9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級(jí)光譜圖。這一核心技術(shù)奠定了SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀杰出分析性能的重要基礎(chǔ)。

2、等離子發(fā)生器光源：

     最新一代等離子發(fā)生器是至今最堅(jiān)固的激發(fā)光源。超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字信號(hào)發(fā)生配合全數(shù)字能量輸出，確保激發(fā)區(qū)等離子體能量超高分辨率和高保真輸出。 在標(biāo)準(zhǔn)分析應(yīng)用中18秒內(nèi)可以獲得分析數(shù)據(jù)，提高了樣品輸出量和過程控制效率。

3、火花臺(tái)：

     SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀的火花臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)。火花臺(tái)內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小，優(yōu)化氬氣流向設(shè)計(jì)使得氬氣消耗更低，同時(shí)有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級(jí)過濾系統(tǒng)排出?；鸹ㄅ_(tái)工作維護(hù)量極低。極品壓桿可以左右移動(dòng)，接駁安全電路?？梢钥焖俑鼡Q樣品。

SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀的尾氣過濾系統(tǒng)可避免火花臺(tái)中的粉塵排至實(shí)驗(yàn)室房間。無需專門工具即可更換火花臺(tái)蓋板。只需順時(shí)針轉(zhuǎn)1/8圈，松開四個(gè)緊固螺釘即可更換蓋板重新緊固螺釘。所需的僅僅是一把改錐。無需工具，只需用手?jǐn)Q松兩個(gè)螺釘即可更換入射透鏡。適用分析大尺寸異型樣品。特殊設(shè)計(jì)的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品專用分析程序提高了分析精度和準(zhǔn)確性。

4、分析測(cè)試：

     SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀的精致設(shè)計(jì)使用日常維護(hù)和校工作量降到最低，儀器操作變得非常簡(jiǎn)單。日常分析按一個(gè)鍵就可以完成。配合自動(dòng)制樣設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)大樣品量輸出。集成于SparkAnalyzer Vision軟件包的硬件診斷系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)控和存檔儀器的運(yùn)行狀態(tài)。對(duì)于儀器參數(shù)設(shè)置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號(hào)判定等功能，軟件設(shè)計(jì)了簡(jiǎn)單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎(chǔ)。

基于用戶的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。

CCD光學(xué)系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學(xué)系統(tǒng)最多可設(shè)置108個(gè)高性能光電倍增管。每個(gè)光電管通道都有是一個(gè)微積分器，具有TRS（時(shí)間分解光譜技術(shù)）分析痕量元素和SSE（單火花評(píng)估技術(shù)）分析元素相態(tài)。事實(shí)上，所有分析要求都可以在SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀中最優(yōu)無折衷地實(shí)現(xiàn)。

配備最現(xiàn)代光譜技術(shù)和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀設(shè)計(jì)應(yīng)用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號(hào)判定，材料研究和開發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應(yīng)用。

SPECTROLAB M11火花直讀光譜儀通過SATEUS(可用樣品的檢測(cè)技術(shù))來識(shí)別預(yù)激發(fā)過程中有缺陷的樣品，SEREPS（自調(diào)整預(yù)激發(fā)技術(shù)）來自動(dòng)優(yōu)化預(yù)激發(fā)時(shí)間，SETEME(測(cè)量可靠的檢測(cè)技術(shù))可自動(dòng)檢測(cè)出整個(gè)分析過程中的有缺陷的樣品，從而避免因操作不當(dāng)、樣品制備不好或樣品有缺陷等因素使儀器的分析性能受到影響。

SPECTROLAB M11斯派克光譜相關(guān)內(nèi)容：
偶然誤差是指由于在測(cè)試過程中，一系列的有關(guān)因素微小的隨機(jī)波動(dòng)而形成的具有相互抵償性的誤差、它決定了測(cè)定結(jié)果的精密度。在多次分析結(jié)果與真實(shí)含量比較，是向兩個(gè)不同方向偏離，這時(shí)的誤差稱偶然誤差。偶然誤差有時(shí)大，有時(shí)小，有時(shí)正，有時(shí)負(fù)，但正負(fù)的出現(xiàn)的機(jī)率基本相等，并且服從高斯分布定律。隨著測(cè)定次數(shù)的增加，正負(fù)誤差相互抵償，誤差平均值趨向于零。
產(chǎn)生偶然誤差的原因很多，要完全清除偶然誤差是不可能的。但是通過誤差分析，找出產(chǎn)生大誤差的環(huán)節(jié)、采取措施，改進(jìn)分析方法，縮小偶然誤差是可能的。

產(chǎn)品關(guān)鍵詞： 斯派克光譜,