氧化擴散爐產(chǎn)品應用：應用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域，適用2~8英寸工藝尺寸
擴散爐產(chǎn)品特點：
◆工業(yè)計算機控制系統(tǒng)，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門等動作進行自動控制
◆采用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均采用進口，確保設備的高可靠性
◆工藝管路采用進口閥門管件組成-氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均采用EP級電拋光管路），流量控制采用進口質量流量計（MFC）
◆控溫精度高，溫區(qū)控溫穩(wěn)定性好；
擴散爐主要技術指標
◆工作溫度：200～1300℃
◆加熱體控制點：3/5點
◆爐體恒溫區(qū)：450mm/600mm/800mm/1100mm
◆恒溫區(qū)精度：＞800℃/±0.5℃，＜800℃/±1℃
◆單點溫度穩(wěn)定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
◆*可控升溫速度：15℃/min
◆*降溫速度：5℃/min（900～1300℃）
◆供電：三相四線，380VAC/50HZ
◆局部凈化等級：100級。
◆氧化系統(tǒng)：干氧、濕氧（氫氧內外點火）