真空電鍍（PVD）全稱真空離子濺射鍍，是一種物理沉積現(xiàn)象。即在超低壓容器中，利用電場(chǎng)的遷移作用對(duì)被鍍件涂覆金屬、金屬化合物、或非金屬涂層的一種工藝。

真空電鍍特點(diǎn)

(1)金屬膜層很薄能嚴(yán)格復(fù)制出貨品表面情況；

(2)卓越的附著力，彎折過(guò)程中不會(huì)脫落

(3)產(chǎn)品不含有對(duì)人體有害的金屬物質(zhì)，加工過(guò)程中對(duì)人體和環(huán)境無(wú)害

(4)鍍層均勻、致密、附著性好、硬度高、耐磨擦。

(5)符合歐盟ROHS標(biāo)準(zhǔn).環(huán)保。

(6)突出優(yōu)點(diǎn):表面不沾污垢,手指印等輕輕一擦就掉.

(7)性能穩(wěn)定:48小時(shí)鹽霧試驗(yàn),耐磨試驗(yàn),人工汗測(cè)試,全部合格