等離子體指部分或完全電離的氣體，且自由電子和離子所帶正、負電荷的總和完全抵消，宏觀上呈現(xiàn)中性電。等離子體又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質存在的第四態(tài)。

與傳統(tǒng)的方法相比，等離子體表面處理具有成本低、無廢棄物、無污染等顯著的優(yōu)點，同時可以得到傳統(tǒng)的化學方法難以達到的處理效果?，F(xiàn)在低溫等離子設備廣泛運用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領域。

等離子設備中頻，射頻等離子處理機型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉鼓等真空等離子處理設備和噴射、準輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設備；

等離子處理機具有高穩(wěn)定性、高性價比、高均勻性等諸多優(yōu)點。

特色鮮明的處理腔體形狀和電極結構可以滿足不同形狀、不同材質的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。