名稱:鉻(Cr)
鉻有時用在分光鏡上并且通常用作'膠質(zhì)層'來增強附著力,膠質(zhì)層可能在5-50NM的范圍內(nèi),但在鋁鏡膜導(dǎo)下面,30NM是增強附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發(fā)而塊狀宜用電子槍來蒸發(fā),該材料升華,但是表面氧化物可以防止它蒸發(fā)/升華,可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質(zhì)層對金鏡化合物進行韌性處理,也可在塑料上使用鉻作為膠質(zhì)層.也可使用一個螺旋狀的鎢絲蒸發(fā).它應(yīng)該是所有材料中具有最高拉應(yīng)力的材料.
. 高粘保護膜
特性: 厚(≥0.05±0.003), 寬(≤1.3),高(100-800),基材(PE),剝離強度(80-100g/cm),耐溫(60),拉伸率(>400)
用途: 粘力穩(wěn)定,貼附性好,再剝落性能良好,無殘膠現(xiàn)象, 適用于細紋磨砂板,鋁塑板,難粘塑料板材等.
6. 超高粘保護膜
特性: 厚(≥0.04±0.003), 寬(≤1.3),高(100-800),基材(PE),剝離強度(100g/cm以上),耐溫(60),拉伸率(>400)
用途: 粘性特高,選用水性丙烯酸作壓敏膠,使用方便,易貼易撕,無殘膠現(xiàn)象.適用于粗紋鋁板等難粘材料
名稱:鍺化鋅(ZnGe)
疏散的鍺化鋅具有一個比其相對較高的折射率,在500NM時N=2.6,在可見光譜區(qū)以及12000-14000NM區(qū)域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒有其材質(zhì)那么硬.使用鉭舟將其蒸發(fā)到150℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡.
氧化鉿
名稱:氟化釷(ThF4)
260-12000nm以上的光譜區(qū)域,是一種優(yōu)秀的低折射率材料,然而存在放射性,在可視光譜區(qū)N從 1.52降到1.38(1000nm區(qū)域)在短波長趨近于1.6,蒸發(fā)溫度比MGF2低一些,通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆?;鹦秋w濺出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅固.該膜在IR光譜區(qū)300NM小水帶幾乎沒有吸收,這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性,在8000到12000NM完全沒有材料可以替代.
4沉積技術(shù)
將金屬薄層沉積到襯底或之前獲得的薄層的技術(shù)稱為表面沉積。這里的“薄”是一個相對的概念,但大多數(shù)的沉積技術(shù)都可以將薄層厚度控制在幾個到幾十納米尺度的范圍內(nèi),分子束外延技術(shù)可以得到單一原子層的結(jié)構(gòu)。