分子束外延是一種超高真空條件下的物理氣相淀積方法。其工作原理是在超高真空系統(tǒng)中，使分子或原子束連續(xù)不斷地撞擊到被加熱的襯底表面上而獲得均勻外延層。在分子束外延過(guò)程中，各種成分的束強(qiáng)度可以分別控制。分子束外延的特點(diǎn)是生長(zhǎng)速率相當(dāng)?shù)?，典型的?.1～0.2μm/h，因而能精細(xì)控制生長(zhǎng)層的厚度，可以生長(zhǎng)極薄的外延層。

美國(guó)PVD公司生產(chǎn)的Laser MBE具備PLD和傳統(tǒng)MBE的特性，可對(duì)薄膜的生長(zhǎng)速率進(jìn)行精確（原子層級(jí)別）控制。通過(guò)在MBE系統(tǒng)上增加激光燒蝕工藝，系統(tǒng)可以生長(zhǎng)包括高熔點(diǎn)陶瓷以及多元素固體材料等。美國(guó)PVD公司有多年的MBE設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)，我們擅于通過(guò)原位的監(jiān)控測(cè)量?jī)x器來(lái)提高薄膜生長(zhǎng)的質(zhì)量。其中原位測(cè)量?jī)x器包括：溫度測(cè)量、厚度測(cè)量、RHEED、束流監(jiān)控等。

憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)外擁有較多用戶，為眾多老師開(kāi)啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來(lái)參觀咨詢。

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PLD / MBE-2100系統(tǒng)是三者中最小的PLD / MBE-2000系列系統(tǒng)還包括了這些系統(tǒng)的所有主要功能。它是基于一個(gè)304L不銹鋼圓柱形腔室。該腔室具有一頂部凸緣，其密封針對(duì)由氟橡膠O形環(huán)的圓柱體。特高壓應(yīng)用提供了一對(duì)差動(dòng)泵送氟橡膠O型圈。的電動(dòng)提升機(jī)設(shè)置解除頂部凸緣，并允許容易進(jìn)入腔室的內(nèi)部部件。該腔室包括多個(gè)凸緣用于觀察目標(biāo)，基材，燒蝕羽流以及附加配件，例如惠普的RHEED，發(fā)射光譜，高溫測(cè)定，殘余氣體分析儀等的腔室的后部裝配有一個(gè)成角度的6″ CF卡接口用于添加的原子或離子源，噴射室，或磁控管濺射源。PLD / MBE-2100室包括內(nèi)部光通過(guò)我們的可選雙晶圓裝載鎖定提供樣品，目標(biāo)和基板傳輸?shù)挠^賞效果極佳。室的墻壁上有一組可清洗很容易地刪除時(shí)，燒蝕材料堆積成為顯著內(nèi)部SS盾牌。由于有限的清潔球PLD設(shè)計(jì)室的墻壁是不是很容易的事情。此外，在PLD / MBE系統(tǒng)渦輪泵脫落腔室保護(hù)從小零件或樣品可無(wú)意中落入系統(tǒng)泵的一側(cè)。

PLD / MBE-2100室安裝與集成光學(xué)列車(chē)的鋼支架上。提供第二幀包括一對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的19″ 全電子機(jī)架容納所有系統(tǒng)的電子產(chǎn)品。此外，該幀用作用于受激準(zhǔn)分子激光器提供一個(gè)緊湊的布局的支撐臺(tái)。其它類(lèi)型的激光器也可被容納。與位于機(jī)架頂部的激光需要時(shí)它是易于接近以進(jìn)行維修。在PLD / MBE-2100室是由一個(gè)荏原EV A03干式渦旋泵的支持一個(gè)普發(fā)500升/秒的渦輪泵泵送。

該系統(tǒng)包括一個(gè)集成的壓力控制器，以提供巖石穩(wěn)態(tài)沉積壓力為1?500毫托增值稅系列642閉環(huán)閘閥。標(biāo)準(zhǔn)的系統(tǒng)包括根據(jù)需要在單個(gè)MFC和額外的微生物燃料電池很容易增加。真空計(jì)量包括貝亞德阿爾珀特電離壓力計(jì)，二Convectron計(jì)，和一個(gè)電容壓力計(jì)。該系統(tǒng)的基本壓力為5×10 -7乇的標(biāo)準(zhǔn)，5×10 -8乇具有可選負(fù)荷閉鎖，低于5×10 -9乇具有可選特高壓包。的PLD / MBE-2100配備了處理六（6）2英寸直徑的目標(biāo)一個(gè)目標(biāo)操縱。目標(biāo)由重力在基座保持，從而不需要靶夾緊。小于直徑目標(biāo)或其他小型目標(biāo)的尺寸可以很容易地適應(yīng)與可選的插入。

PLD / MBE-2100系統(tǒng)選項(xiàng)

PLD / MBE沉積系統(tǒng)配有多種選擇。這些包括如下：

1. 雙晶圓裝載鎖定

2. 附加MFC

3. 特高壓選項(xiàng)低于5×10-9底壓力

4. 法蘭安裝磁控濺射源與DC或RF電源

5. 光纖耦合高溫計(jì)

6. 法蘭安裝離子源

7. 法蘭安裝原子的氧，氮，或氫源

8. 法蘭安裝積液細(xì)胞

9. 高壓RHEED包與數(shù)據(jù)采集

10. RF偏置基材為基材預(yù)清潔和反應(yīng)性氣體形成

11. 準(zhǔn)分子激光封裝，氣柜及報(bào)警系統(tǒng)

12. Nd：YAG，F(xiàn)S和ps激光包