分子束外延是一種超高真空條件下的物理氣相淀積方法。其工作原理是在超高真空系統(tǒng)中，使分子或原子束連續(xù)不斷地撞擊到被加熱的襯底表面上而獲得均勻外延層。在分子束外延過程中，各種成分的束強(qiáng)度可以分別控制。分子束外延的特點(diǎn)是生長(zhǎng)速率相當(dāng)?shù)?，典型的?.1～0.2μm/h，因而能精細(xì)控制生長(zhǎng)層的厚度，可以生長(zhǎng)極薄的外延層。

PVD公司是美國(guó)主要制造商，是一家專業(yè)從事脈沖激光沉積分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)及組件的設(shè)計(jì)和制造的公司，提供超高真空薄膜沉積系統(tǒng)，應(yīng)用于分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積。產(chǎn)品主要集中在小型研究開發(fā)系統(tǒng)，其應(yīng)用主要包括：
  用分子束外延進(jìn)行半導(dǎo)體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長(zhǎng)；
  UHV磁控濺射磁性薄膜；

  脈沖激光沉積超導(dǎo)薄膜、氧化物和陶瓷材料。

儀器主要配置：

超高真空物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)；
磁控濺射系統(tǒng)；
脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)；
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)；
離子束沉積系統(tǒng)；

熱蒸發(fā)系統(tǒng)。

美國(guó)PVD公司已經(jīng)在全球范圍內(nèi)安裝了超過100套的超高真空系統(tǒng)。絕大部分的產(chǎn)品都是針對(duì)用戶定制設(shè)計(jì)復(fù)雜的沉積系統(tǒng)。在標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)制造業(yè)中有著深厚的為用戶定制設(shè)計(jì)的背景，在用戶中具有很好的聲譽(yù)。許多的標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)最初都是起源于針對(duì)某些客戶對(duì)沉積過程特殊需求的解決方案,與廣大的中國(guó)用戶開展更為廣泛的交流與合作，為廣大的中國(guó)用戶提供國(guó)際頂尖PLD MBE和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)制造商的產(chǎn)品和服務(wù)。

更多關(guān)于PLD產(chǎn)品信息：
聯(lián)系人：康先生

手機(jī)：13686827543
座機(jī)：0755-26510991
官網(wǎng)：www.pvdproducts.cn