分子束外延是一種超高真空條件下的物理氣相淀積方法。其工作原理是在超高真空系統(tǒng)中，使分子或原子束連續(xù)不斷地撞擊到被加熱的襯底表面上而獲得均勻外延層。在分子束外延過程中，各種成分的束強度可以分別控制。分子束外延的特點是生長速率相當?shù)?，典型的?.1～0.2μm/h，因而能精細控制生長層的厚度，可以生長極薄的外延層。
PVD公司是美國主要制造商，是一家專業(yè)從事脈沖激光沉積分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)及組件的設計和制造的公司，提供超高真空薄膜沉積系統(tǒng)，應用于分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積。產(chǎn)品主要集中在小型研究開發(fā)系統(tǒng)，其應用主要包括：
用分子束外延進行半導體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長；
UHV磁控濺射磁性薄膜；
脈沖激光沉積超導薄膜、氧化物和陶瓷材料。
儀器主要配置：
超高真空物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)； 熱蒸發(fā)系統(tǒng)。分子束外延系統(tǒng)（MBE）；
GaAs、InP和GaSb外延；
HgCdTe外延；
GaN、InN和AlN外延；
Ⅱ-Ⅵ族外延；
SiGe外延；
Si/金屬/氧化物外延；
磁控濺射系統(tǒng)；
脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)；
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)；
離子束沉積系統(tǒng)；
美國PVD公司已經(jīng)在全球范圍內(nèi)安裝了超過100套的超高真空系統(tǒng)。絕大部分的產(chǎn)品都是針對用戶定制設計復雜的沉積系統(tǒng)。在標準系統(tǒng)制造業(yè)中有著深厚的為用戶定制設計的背景，在用戶中具有很好的聲譽。許多的標準系統(tǒng)最初都是起源于針對某些客戶對沉積過程特殊需求的解決方案,與廣大的中國用戶開展更為廣泛的交流與合作，為廣大的中國用戶提供國際頂尖PLD MBE和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)制造商的產(chǎn)品和服務。
更多關于PLD產(chǎn)品信息：
聯(lián)系人：康先生
手機：13686827543
座機：0755-26510991
官網(wǎng)：www.pvdproducts.cn
