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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料，蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術(shù)企業(yè)應(yīng)用開發(fā)的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸發(fā)材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中高級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，具有很強(qiáng)的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較高的性價(jià)比，成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。

鋅鋁靶ZnAl，銅靶

公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％） 

高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等…… 

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材： 

金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。 

2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％） 

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化T18919837845(不是聯(lián)系方式)釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

眾說周知，顯示領(lǐng)域的ITO靶材中75% 的材料都含有銦，而中國銦產(chǎn)量占世界50%以上，但幾乎所有的顯示領(lǐng)域所消耗的ITO靶材仍需要進(jìn)口，在這一資金密集型領(lǐng)域，中國沒有一家本土企業(yè)可以滿足嚴(yán)格的質(zhì)量要求，盡管中國沒有本土的顯示屏制造商，但國內(nèi)企業(yè)想盡力涉足到ITO靶材市場

液晶顯示屏的主要材料為銦錫氧化物，一般簡稱為ITO。 它是液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、電致發(fā)光顯示器（EL/OLED）、觸摸屏（TouchPanel）、太陽能電池以及其他電子儀表的透明電極最常用的薄膜材料。

超高純金屬材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的必需原材料，也是被日美大型企業(yè)嚴(yán)重壟斷，造成我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)依賴性的關(guān)鍵材料。有人曾戲言，當(dāng)年我國的半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)除了水和空氣來自中國，其余所有的設(shè)備、材料和工藝都來自國外。

【原創(chuàng)內(nèi)容】
用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個(gè)合理的功率加大速率為我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)三、包裝和運(yùn)輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護(hù)靶材的保護(hù)手套，絕對(duì)避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。金屬靶材可以通過四步清潔，第一步用在丙酮中浸泡過的無絨軟布清潔；用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時(shí)用壓縮空氣清除腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過的沙紙輕輕的對(duì)表面進(jìn)行拋光。紗紙拋光后,再用酒精，丙酮和去離子水清洗，同物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加，化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時(shí)調(diào)整反應(yīng)氣體流量，其是采用金屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑（包括環(huán)氧樹脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶導(dǎo)致在濺射過程中熱量無法散發(fā)最終會(huì)造成靶材開裂或脫靶為確保足夠的導(dǎo)熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)注意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)