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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料，蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術(shù)企業(yè)應(yīng)用開發(fā)的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸發(fā)材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中高級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，具有很強(qiáng)的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較高的性價(jià)比，成功發(fā)替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。
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東莞市鼎偉靶材有限公司
聯(lián)系人：肖先生
手機(jī)：18681059472
電話：0769-88039551
公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
靶材是電子工業(yè)實(shí)現(xiàn)各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業(yè)的發(fā)展主要還是依賴于下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步。而近年來新材料、微電子的發(fā)展，各種光電薄膜、磁性薄膜以及電子薄膜在這些高新技術(shù)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，也讓靶材的生產(chǎn)逐漸趨于專業(yè)化?？梢哉f，靶材行業(yè)是微電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵支撐。
據(jù)《中國(guó)靶材行業(yè)報(bào)告》的統(tǒng)計(jì)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模逐年擴(kuò)大，僅濺射靶材在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用規(guī)模目前就已經(jīng)達(dá)到十多億元。作為制備和生產(chǎn)功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域。它是目前制備金屬薄膜最常用的工藝。作為高技術(shù)用的靶材是一種全新的概念。隨著高技術(shù)用新材料突飛猛進(jìn)的發(fā)展，世界靶材的市場(chǎng)銷售規(guī)模日益擴(kuò)大
【原創(chuàng)內(nèi)容】
用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果，如我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)路進(jìn)行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)三、包裝和運(yùn)輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護(hù)靶材用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時(shí)用壓縮空氣清除腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過的沙紙輕輕的對(duì)表面進(jìn)行拋光。紗紙拋光后,再用酒精，丙酮和去離子水清洗，同要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響，需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會(huì)使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(zhǎng)的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會(huì)使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金
