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真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)

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真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)

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  • 單價(jià):
    面議
  • 可售數(shù)量:
    0
  • 品牌名稱:
  • 所在地:
    廣東東莞
  • 產(chǎn)品規(guī)格:
  • 包裝說明:
  • 商品名稱:真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)
  • 自定義分類:靶材廠家
  • 上架時(shí)間:2018/3/5 10:01
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產(chǎn)品關(guān)鍵詞: 真空鍍膜一氧化硅靶S,真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā),

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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料,蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術(shù)企業(yè)應(yīng)用開發(fā)的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸發(fā)材料專業(yè)為技術(shù)依托,擁有多名中高級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,具有很強(qiáng)的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名電子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中,以較高的性價(jià)比,成功發(fā)替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品,頗受用戶好評(píng)。

真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)

東莞市鼎偉靶材有限公司

聯(lián)系人:肖先生

手機(jī):18681059472           

電話:0769-88039551

郵箱:dingwei586@126.com 

公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品: 

一、真空鍍膜材料 

1.高純真空濺射靶材(99.9%——99.999%) 

高純金屬靶材:鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

 

多元合金靶材: 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等…… 

 

陶瓷濺射靶材:ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs,磷化鎵靶GaP,硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶,鈮酸鋰靶、等… 

 

稀土金屬靶:鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

 

稀土氧化物靶:氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材: 

金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。 

 

2.高純光學(xué)鍍膜材料(99.99%——99.999%) 

氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物:氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物:硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…T18919837845(不是聯(lián)系方式)




濺射靶材在國(guó)際、國(guó)內(nèi)市場(chǎng)都呈現(xiàn)出快速增長(zhǎng)的勢(shì)頭,規(guī)模應(yīng)用和產(chǎn)業(yè)化時(shí)代已經(jīng)到來,行業(yè)前景廣闊。靶材是廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池、玻璃、電子、汽車、工模具、裝飾等領(lǐng)域的核心材料,市場(chǎng)前景廣闊。據(jù)統(tǒng)計(jì),2011 年全球靶材市場(chǎng)容量約為400 億元,市場(chǎng)需求量以每年超過30%的速度快速增長(zhǎng)。近年來,我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,集成電路、光盤及顯示器生產(chǎn)線均有大量合資或獨(dú)資企業(yè)出現(xiàn),我國(guó)已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區(qū)之一。迄今為止,中國(guó)(包括臺(tái)灣)還沒有生產(chǎn)靶材的專業(yè)大公司,大量靶材仍從國(guó)外進(jìn)口,特別是技術(shù)含量高的靶材。與此同時(shí),中國(guó)國(guó)內(nèi)微電子、太陽(yáng)能光伏等高科技產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,大陸和臺(tái)灣的靶材市場(chǎng)需求仍將日益擴(kuò)大

 



 

 


 

【原創(chuàng)內(nèi)容】

大部分背靶可以重復(fù)使用,尤其是采用金屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑(包括環(huán)氧樹脂)則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才 

用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊,一個(gè)合理的功率加大速率為導(dǎo)致在濺射過程中熱量無法散發(fā)最終會(huì)造成靶材開裂或脫靶為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)注意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。高展金屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋包裝,內(nèi)置防潮劑。使用靶材時(shí)請(qǐng)不要用手直接接觸靶材。注意:使用靶材時(shí)請(qǐng)配帶干凈而且不會(huì)起絨用戶對(duì)背靶的檢查結(jié)果,如我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)。影響靶材中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)清潔。第四步在清除完有污垢的區(qū)域后,再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材,以除去所有可能在濺射系統(tǒng)中會(huì)造成起弧的雜質(zhì)微粒三、靶材安裝靶材安裝過程中最重要的注意事項(xiàng)是一定其是采用金屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑(包括環(huán)氧樹脂)則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶和背靶避免在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過程中發(fā)生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物,

 

 

產(chǎn)品關(guān)鍵詞: 真空鍍膜一氧化硅靶S,真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā),
真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)真空鍍膜一氧化硅靶SiO批發(fā)
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聯(lián)系方式

肖先生 (銷售部銷售經(jīng)理)
聯(lián)系我時(shí)務(wù)必告知是在“賽門國(guó)際商貿(mào)網(wǎng)”上看到的!

東莞市鼎偉新材料有限公司

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