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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產高純金屬材料，蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業(yè)應用開發(fā)的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發(fā)材料專業(yè)為技術依托，擁有多名中高級專業(yè)技術人員和專業(yè)化應用實驗室，具有很強的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當中，以較高的性價比，成功發(fā)替代了國外進口產品，頗受用戶好評。

銅靶Cu，鎳鉻靶

公司主要經營產品： 

一、真空鍍膜材料 

1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％） 

高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等…… 

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材： 

金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。 

2．高純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％） 

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化T18919837845(不是聯(lián)系方式)釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

我國的ITO靶材的生產能力為100-150噸/年，但實際產量僅為20-30噸/年。并且因生產技術一直沒有實現(xiàn)實質性突破，產品均以低端靶材為主，滿足液晶面板需求的幾乎為零。但我國ITO靶材生產企業(yè)一直在尋求突破

隨著ITO靶材國產化進程的加快，金屬銦的國內需求有望大幅度增長,按照ITO含銦量70%計算，300噸ITO就需要210噸精銦，到2020年，ITO靶材對銦的需求量將達到420噸。目前，全球的銦80%以上由中國生產和供給。ITO靶材的國產化，將實現(xiàn)我國有色金屬資源優(yōu)勢和液晶面板產業(yè)優(yōu)勢的結合，將極大的完善我國液晶面板的產業(yè)鏈。2011年4月21日，銦在泛亞有色金屬交易所開始上市交易，通過近四年的交易，平臺的銦99.995%交易已經獲得了業(yè)內外人士的普遍認可，隨著未來用于各領域的銦錫靶材的增加，銦的長期需求被看好，而其金融屬性也日益增強

【原創(chuàng)內容】
平整度，同時確保O型密封圈始終在位置上。四、短路及密封性檢查靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封性檢查，建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短其是采用金屬銦進行帖合的比較容易進行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑（包括環(huán)氧樹脂）則可能需要采用機械處理的方式對背靶表面處理后才能重復使用。當我們收到用戶導致在濺射過程中熱量無法散發(fā)最終會造成靶材開裂或脫靶為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的導致在濺射過程中熱量無法散發(fā)最終會造成靶材開裂或脫靶為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的和背靶避免在運輸和儲存過程中發(fā)生損壞。一、濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，屬鉬作為背靶材料。不銹鋼管(SST)–目前最常使用不銹鋼管作為旋轉靶材的背管，因為不銹鋼管具有良好的強度和導熱性而且非常經濟二、背靶重復使用大部分背靶可以重復使用，尤路進行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預濺射靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作提供的已使用過的背靶后，我們會首先進行卸靶處理（如適用）并且對背靶進行完全檢查，檢查的重點包括背靶的平整度，完整性及密封性等。我們會通知用戶對背靶的檢查結果，如