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東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料，蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術(shù)企業(yè)應(yīng)用開發(fā)的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸發(fā)材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中高級專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實驗室，具有很強的蒸發(fā)材料開發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較高的性價比，成功發(fā)替代了國外進口產(chǎn)品，頗受用戶好評。
鉑靶材，Pt靶材
東莞市鼎偉靶材有限公司
聯(lián)系人：肖先生
手機：18681059472
電話：0769-88039551
公司主要經(jīng)營產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
高純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑電極、鉑片、鉑粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N T18937853784(不是聯(lián)系方式)
規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做） 鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
鉑片（根據(jù)客戶要求定做）
鉑粉（根據(jù)客戶要求定做）
靶材是電子工業(yè)實現(xiàn)各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業(yè)的發(fā)展主要還是依賴于下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的進步。而近年來新材料、微電子的發(fā)展，各種光電薄膜、磁性薄膜以及電子薄膜在這些高新技術(shù)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，也讓靶材的生產(chǎn)逐漸趨于專業(yè)化?？梢哉f，靶材行業(yè)是微電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵支撐。
據(jù)《中國靶材行業(yè)報告》的統(tǒng)計，我國靶材產(chǎn)業(yè)的市場規(guī)模逐年擴大，僅濺射靶材在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用規(guī)模目前就已經(jīng)達(dá)到十多億元。作為制備和生產(chǎn)功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域。它是目前制備金屬薄膜最常用的工藝。作為高技術(shù)用的靶材是一種全新的概念。隨著高技術(shù)用新材料突飛猛進的發(fā)展，世界靶材的市場銷售規(guī)模日益擴大
【原創(chuàng)內(nèi)容】
我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會書面通知客戶并提供維修報價三、包裝和運輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材提供的已使用過的背靶后，我們會首先進行卸靶處理（如適用）并且對背靶進行完全檢查，檢查的重點包括背靶的平整度，完整性及密封性等。我們會通知用戶對背靶的檢查結(jié)果，如平整度，同時確保O型密封圈始終在位置上。四、短路及密封性檢查靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封性檢查，建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短用。靶材進行預(yù)濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為
大部分背靶可以重復(fù)使用，尤其是采用金屬銦進行帖合的比較容易進行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑（包括環(huán)氧樹脂）則可能需要采用機械處理的方式對背靶表面處理后才
需要進行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金路進行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作路進行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作
