設(shè)備簡(jiǎn)介：

1.主要用于單、多晶硅太陽(yáng)能電池片生產(chǎn),擴(kuò)散前的絨面腐蝕和清洗。

2.工藝流程：

上料→HF+HNO3腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?/span>+噴淋→KOH腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?/span>+噴淋→HCl腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?/span>+噴淋→下料→離心機(jī)甩干(離線)；

3.設(shè)備采用龍門(mén)式機(jī)械手方式移動(dòng)，其工藝時(shí)間可以自行調(diào)節(jié)，酸堿槽具有自動(dòng)補(bǔ)液裝置，可實(shí)現(xiàn)無(wú)間斷生產(chǎn)。能顯示溫度曲線、濃度變化曲線，及各個(gè)工位的工作狀態(tài)。具有設(shè)備報(bào)警說(shuō)明，報(bào)警歷史查詢功能。對(duì)清洗用純水有電阻率監(jiān)測(cè)裝置，能存儲(chǔ)10個(gè)以上工藝方案；

4.標(biāo)準(zhǔn)工藝下產(chǎn)量：125mm×125mm、156mm×156mm、210mm×210mm的硅片，適用于投產(chǎn)厚度為160±30～200±30微米的硅片，硅片產(chǎn)能不低于1200片/小時(shí)，設(shè)備開(kāi)工率＞92﹪，碎片率≤3‰。