東莞市海力環(huán)保設(shè)備科技有限公司，主要是向PCB、電鍍行業(yè)提供環(huán)保設(shè)備，協(xié)助PCB、電鍍生產(chǎn)廠家酸堿性蝕刻液、微蝕液循環(huán)再生回用，含銅回收設(shè)備、金回收設(shè)備、鎳回收設(shè)備、錫回收設(shè)備，廢水金屬回收，中水回用，廢水處理。
堿性氯化銅蝕刻液1) 蝕刻機(jī)理： CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl2) 影響蝕刻速率的因素：蝕刻液中的Cu2+濃度、pH值、氯化銨濃度以及蝕刻液的溫度對(duì)蝕刻速率均有影響。a、Cu2+離子濃度的影響：Cu2+是氧化劑，所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明：在0~82g/L時(shí)，蝕刻時(shí)間長；在82~120g/L時(shí)，蝕刻速率較低，且溶液控制困難；在135~165g/L時(shí)，蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定；在165~225g/L時(shí)，溶液不穩(wěn)定，趨向于產(chǎn)生沉淀。b、溶液pH值的影響：蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間，當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí)，一方面對(duì)金屬抗蝕層不利；另一方面，蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子，溶液要出現(xiàn)沉淀，并在槽底形成泥狀沉淀，這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮，可能損壞加熱器，還會(huì)堵塞泵和噴嘴，給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過高，蝕刻液中氨過飽和，游離氨釋放到大氣中，導(dǎo)致環(huán)境污染；同時(shí)，溶液的pH值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度，從而影響蝕刻的精度。c、氯化銨含量的影響：通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出：[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在，如果溶液中缺乏NH4Cl，大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生，蝕刻速率就會(huì)降低，以致失去蝕刻能力。所以，氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行，要不斷補(bǔ)加氯化銨。d、溫度的影響：蝕刻速率與溫度有很大關(guān)系，蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃，蝕刻速率很慢，而蝕刻速率過慢會(huì)增大側(cè)蝕量，影響蝕刻質(zhì)量；溫度高于60℃，蝕刻速率明顯增大，但NH3的揮發(fā)量也大大增加，導(dǎo)致污染環(huán)境并使蝕刻液中化學(xué)組分比例失調(diào)。故溫度一般控制在45~55℃為宜。
東莞市海力環(huán)保設(shè)備科技有限公司，成立于2006年，是一家集環(huán)保設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、安裝、調(diào)試、運(yùn)營管理和售后服務(wù)于一體的高新科技企業(yè)，是專業(yè)從事電路板、電鍍行業(yè)清潔生產(chǎn)的科研及產(chǎn)業(yè)化基地，向PCB、電鍍行業(yè)提供環(huán)保設(shè)備，協(xié)助PCB、電鍍生產(chǎn)廠家酸堿性蝕刻液、微蝕液循環(huán)再生回用，含銅回收設(shè)備、金回收設(shè)備、鎳回收設(shè)備、錫回收設(shè)備，廢水金屬回收，中水回用，廢水處理。
微蝕電解銅電源，蝕刻液銅回收設(shè)備，銅電解設(shè)備
在電解槽中，將電流通過電解質(zhì)溶液或熔融態(tài)物質(zhì)，（又稱電解液），在陰極和陽極上引起氧化還原反應(yīng)的過程，電化學(xué)電池在外加電壓時(shí)可發(fā)生電解過程。以制備所需產(chǎn)品的過程。
電解原理
電解質(zhì)中的離子常處于無秩序的運(yùn)動(dòng)中，通直流電后,離子作定向運(yùn)動(dòng)。陽離子向陰極移動(dòng)，在陰極得到電子，被還原；陰離子向陽極移動(dòng)，在陽極失去電子，被氧化。
電解用途:
電解廣泛應(yīng)用于冶金工業(yè)中，如從礦石或化合物提取金屬(電解冶金)或提純金屬(電解提純)，以及從溶液中沉積出金屬(電鍍)。金屬Na和Cl?是由電解溶融氯化鈉生成的；電解氯化鈉的水溶液則產(chǎn)生氫氧化鈉和Cl?。電解水產(chǎn)生氫氣和氧氣。水的電解就是在外電場作用下將水分解為H2（g）和O2（g）。電解是一種非常強(qiáng)有力的促進(jìn)氧化還原反應(yīng)的手段，許多很難進(jìn)行的氧化還原反應(yīng)，都可以通過電解來實(shí)現(xiàn)。電解一般用于溶質(zhì)中的銅,錫,鎳,金,銀,鋁,銻,鋅,礦鈀等稀有金屬的電解
