日本富士感光漿，移印鋼板感光漿

一、特性

  1、FMR是負性感光抗蝕劑，有較好的耐酸、耐堿性。

  2、FMR的解像性比較好，由于抗蝕劑中的金屬離子含量極少，所以適合于半導體管（電

    晶體）、二極體、IC（集成電路）和SI（大規(guī)模高密度集成電路）等方面使用。

二、使用方法

  1、表面處理

     對金屬板進行完全的脫脂、脫錆、噴涂等。

  2、涂布處理

     可用多種涂布方法如旋轉、蘸、噴涂等。

  3、烘干

     置于熱風恒溫干燥器中，80-100℃，20分鐘；或置于加熱板上，80-100℃，2分鐘。

  4、曝光

     用i線（365nm）—g線（436nm）曝光。

  5、顯像

     使用FMR顯像液，在常溫下顯影1分鐘，用FMR洗滌液沖洗30秒。

  6、烘烤

     在150℃的情況下，加熱20-30分鐘，或置于加熱板上，150℃，3分鐘，可提高耐腐

     蝕性。

  7、蝕刻

     按照常規(guī)處理。

  8、剝膜

     使用FMR剝膜液，在常溫下浸漬2-3分鐘，然后用水洗。