HEIJ系列科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年國(guó)際日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺(jué)系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無(wú)機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫(xiě)、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級(jí)點(diǎn)/點(diǎn)陣、線(xiàn)/曲線(xiàn)、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。
適用各類(lèi)有機(jī)/無(wú)機(jī)墨水,包括聚合物、樹(shù)脂、像素點(diǎn)、量子點(diǎn)、金屬納米粒子墨水、納米銀線(xiàn)、鹽溶液、光刻膠、碳納米管、石墨烯、DNA、蛋白質(zhì)等
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