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鉭靶材 用途:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜
牌號:RO5200,RO5400
純度:99.95% ,99.99%規(guī)格:方靶材,厚度x寬度x長度=5~25x≤800x≤2000(mm) 圓靶材,厚度x直徑=5~25x≤Φ800(mm)
鉭坩堝, 鉭杯
牌號:Ta1,Ta2,RO5200,RO5400
純度:99.95%,99.99%
應(yīng)用:冶金,化工,電容,防腐蝕
產(chǎn)品名稱
化學(xué)符號
含量
熔點
鈦坩堝
Ti
2N6
1668℃
鎳坩堝
Ni
1453℃
鋯坩堝
Zr
2N5
1852℃
鉭坩堝
Ta
3N5
2996℃
鈮坩堝
Nb
2468℃
鉬坩堝
Mo
2617℃
鎢坩堝
W
3410℃
銅坩堝
Cu
2567℃
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