研磨盤在很多方面都起著一個相當(dāng)大的作用，就比如：隨著光學(xué)和電子學(xué)的不斷融合，光電器件的需求越來越大，對其中關(guān)鍵零件表面的質(zhì)量要求越來越高，其制造材料開始普遍采用光學(xué)玻璃、工程陶瓷等硬脆材料，如何實(shí)現(xiàn)這些硬脆材料零件表面的超廣滑拋光已經(jīng)成為精密微細(xì)加工領(lǐng)域的的一個重要研究課題。如微電子行業(yè)的硅片加工，從目前主流的8英寸硅片逐漸發(fā)展到12英寸，其表面的超光拋滑光是超精密加工的一個挑戰(zhàn)。又如光學(xué)透鏡、反射鏡等各種光學(xué)表面不僅需要很高的面形精度還需要超光滑的表面而且對次表明損傷也需要嚴(yán)格控制，包括手機(jī)、電視等各種液晶顯示屏的背光板也需要超光滑拋光。光學(xué)元器件在光纖通信、國防、醫(yī)療、辦公自動化等領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛，隨著信息電子化、光電信號傳輸?shù)母咚倩痛笕萘炕?，融合電子技術(shù)和光學(xué)技術(shù)的電子圖像傳輸處理技術(shù)越來越重要，為適應(yīng)今后多媒體網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)發(fā)展的需要，必須在光學(xué)元器件加工技術(shù)方面尋求新突破。在其他一些領(lǐng)域如高密度磁記錄器件和光記錄器件等制造方面，也存在對超光滑表面的巨大需求。

目前多數(shù)光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠家都會進(jìn)行研磨后和鍍磨前兩次清洗其中研磨后主要清洗瀝青（漆片）和研磨粉，鍍膜前主要清洗求芯油（磨邊油）、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者*的區(qū)別在于前者對無機(jī)污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者使用的半水機(jī)清洗劑對于無機(jī)物污染物的清洗效果也比較好；兩者的共同特點(diǎn)是對于有機(jī)物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時對鏡片的安全性極高。

威固特研磨盤超聲波清洗設(shè)備，對研磨光學(xué)玻璃而言在生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗大致用到超聲波清洗機(jī)設(shè)備。

   想以高質(zhì)量、高標(biāo)準(zhǔn)的要求呈現(xiàn)出更加*的狀態(tài)，都來自于過程中的嚴(yán)格處理再達(dá)到滿意的效果。研磨盤在各方面發(fā)揮的作用，也需要一定的處理。威固特超聲波清洗設(shè)備獨(dú)特的外沿設(shè)計，清洗槽外沿覆蓋一層特殊塑料，即美觀又能防腐，防湯。清洗槽采用加厚特殊不銹鋼制作而成，更加經(jīng)久耐用。選用國際名牌高性能換能器，清洗效力更強(qiáng)勁。內(nèi)置頻率掃描功能，有效消除清洗死角，使清洗效果更優(yōu)化。超聲功率大，噪聲小。