產(chǎn)品概述：
二氧化硅拋光粉產(chǎn)品均是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度顆粒均勻，分散性好，切削力好，鏡面效果好的拋光粉，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，
拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點(diǎn)：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術(shù)指標(biāo)：
型號 | 外觀 | 粒徑 nm | 含量 % | 產(chǎn)品特性及應(yīng)用 |
VK-SP20F | 白色粉末 | 20 | 99.8 | 精細(xì)拋光，寶石拋光 |
VK-SP50F | 白色粉末 | 50 | 99.5 | 精細(xì)拋光，寶石拋光 |
VK-SP100 | 白色粉末 | 100 | 99.5 | 精細(xì)拋光，寶石拋光 |
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