敝司代理centrotherm的各種爐子，比如

1.真空焊接爐c.VLO-Series適用大批量的生產(chǎn)，焊接過(guò)程中的溫度范圍可高達(dá)450°C以上，客戶應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋：MEMS，Mosfet、IGBT，先進(jìn)的封裝和光電領(lǐng)域。

2.擴(kuò)散爐c.Verticoo Mini /c.Verticoo200多達(dá)5層堆疊的石英或碳化硅工藝爐管，可靈活選配工藝爐管，每個(gè)爐管之間不存在熱*，先進(jìn)的水冷卻系統(tǒng)，一體化爐管控制系統(tǒng)。

3.PECVD/LPCVD的c.Horicoo200/300系統(tǒng)是管式系統(tǒng)，采用平行式石墨舟和低頻（40KHZ)激發(fā)等離子體放電。在低壓和高溫的條件下，等離子體在石墨舟的石墨電極之間激發(fā)。對(duì)硅片具有表面鈍化和體鈍化的雙重功能。

4.氧化爐c.OXIDATOR150工藝溫度從900℃到1500℃，高氧化質(zhì)量，N2O和NO氧化物氮化，占地面積小，所有無(wú)金屬加熱器和絕緣

批量可達(dá)50片晶圓，現(xiàn)場(chǎng)氯氣清洗。

5.退火爐c.Activator150/c.RAPID200高激活率，極小表面粗糙度(需適當(dāng)?shù)腃-cap)，*溫度可達(dá)2000 °C，能持續(xù)運(yùn)行≤1600 °C，升溫速率高達(dá)100 K/min，批量處理2“,3“,100 mm,150 mm碳化硅晶圓，批量一次工藝可達(dá)50片(150 mm)，真空<10-3 mbar(選配)，溫度自動(dòng)校準(zhǔn)。