TJ濺射掩膜版叉指電極掩膜板掩膜支架激光加工激光精密焊接
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為mask reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如ic（integrated circuit，集成電路）、fpd（flat panel display，平板顯示器）、pcb（printed circuit boards，印刷電路板）、mems（micro electro mechanical systems，微機電系統(tǒng)）等。
使命：用激光技術(shù)，解決客戶問題，助力科學(xué)發(fā)展
愿景：成為掩膜版加工解決方案者
價值觀：專業(yè)共贏
華諾激光坐落于首都北京，是一家激光精密切割加工、激光打孔、激光刻字、激光焊接等激光代加工的企業(yè)，并提供相關(guān)技術(shù)咨詢服務(wù)！