鉬靶材描述

我們公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)各種純鉬靶材，包括平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材，涵蓋了鉬濺射靶材和鉬陽(yáng)極靶材。

鉬靶生產(chǎn)工藝過(guò)程：混料后裝入模具，進(jìn)行壓制，然后燒結(jié)，毛坯加工，熱處理，最后加工成符合客戶要求尺寸和表面的成品。

純度、密度和微觀結(jié)構(gòu)對(duì)純鉬靶材具有決定性影響。我們能夠提供至少99.95%純度且符合所需雜質(zhì)含量的鉬靶材。高密度使其具有特別高的導(dǎo)電性，在濺射速度方面節(jié)省時(shí)間。均勻的微觀結(jié)構(gòu)在濺射過(guò)程中將具有均勻的侵蝕。

我們能夠提供一套完整的物理性能測(cè)試設(shè)備，如密度、硬度、表面粗糙度等。因此，在使用渦流測(cè)試儀和超聲波設(shè)備時(shí)，可以嚴(yán)格檢查產(chǎn)品的可能內(nèi)部損傷，如孔隙和裂紋，以確保鉬靶材的高質(zhì)量。

鉬靶材的特點(diǎn)

鉬濺射靶材的特點(diǎn)包括：

1. 高純度：我們的鉬濺射靶材具有至少99.95%的高純度，甚至可以到99.99%，可滿足嚴(yán)格的半導(dǎo)體涂層應(yīng)用要求。

2.高密度和均勻的微觀結(jié)構(gòu)：鉬靶相對(duì)密度可以達(dá)到99.5%歲以上，高密度使其具有卓越的導(dǎo)電性，提供出色的濺射速度。均勻的微觀結(jié)構(gòu)確保在濺射過(guò)程中具有均勻的侵蝕，有助于維持穩(wěn)定的性能。

3. 完善的物理性能測(cè)試：我們提供一套完整的測(cè)試設(shè)備，包括密度、硬度、表面粗糙度等測(cè)試，以確保產(chǎn)品質(zhì)量并檢查可能的內(nèi)部損傷，如孔隙和裂紋。

鉬靶材的使用原理：

鉬濺射靶材主要用于磁控濺射涂層，這是一種新型的物理氣相沉積（PVD）方法。在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

鉬靶材應(yīng)用領(lǐng)域：

鉬靶材主要是用來(lái)濺射形成鉬層，而鉬層是 TFT-LCD 屏幕薄膜晶體管的組成部分。當(dāng)需要大屏幕格式、極高圖像清晰度并優(yōu)化對(duì)比度時(shí)，就會(huì)用到它們。鉬靶也用于微電子工業(yè)，例如用于在頻率濾波器（聲表面波濾波器 (SAW)、體聲波濾波器 (BAW)）中形成涂層。鉬靶的其他應(yīng)用包括由氮化鉬制成的擴(kuò)散阻擋層、微電子部件中的導(dǎo)體軌道以及由氧化鉬制成的反應(yīng)濺射透明層，用于 OLED 顯示器和電化學(xué)應(yīng)用。