設(shè)備用途：實(shí)驗(yàn)爐是半導(dǎo)體加工中的典型熱處理設(shè)備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)中進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。

主要技術(shù)參數(shù)：
◆工藝管數(shù)量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆工作溫度范圍：400～1280℃
◆恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆結(jié)構(gòu)型式：臥式熱壁型
◆氣體流量設(shè)定精度:±1％F.S
◆氣路系統(tǒng)氣密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超凈工作臺(tái)：凈化等級(jí)：100級(jí)（萬(wàn)級(jí)廠房）噪音：≤62dB（A）震動(dòng)：≤3μm
◆記錄工藝曲線數(shù)量及工藝步數(shù)不受限制
◆控制方式： 工業(yè)微機(jī)控制