設備用途：實驗爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

主要技術參數：
◆工藝管數量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆工作溫度范圍：400～1280℃
◆恒溫區(qū)長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆結構型式：臥式熱壁型
◆氣體流量設定精度:±1％F.S
◆氣路系統(tǒng)氣密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）噪音：≤62dB（A）震動：≤3μm
◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制
◆控制方式： 工業(yè)微機控制